PDLC膜電極制作方法、負壓平臺及PDLC膜

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011470771.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112596291A 公開（公告）日 2021-04-02
申請公布號 CN112596291A 申請公布日 2021-04-02
分類號 G02F1/1334(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 吳永隆;李炳宏;何文斌;孫瑞 申請（專利權(quán)）人 太倉隆昇光電技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 張偉
地址 215400江蘇省蘇州市太倉市科教新城健雄路20號4號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種PDLC膜電極制作方法、負壓平臺及PDLC膜，涉及電極加工技術(shù)領(lǐng)域，該PDLC膜電極制作方法包括以下步驟：使PDLC膜的待加工面朝上放置于負壓平臺，并使PDLC膜的待加工面的液晶活化區(qū)域與負壓平臺的透明區(qū)域相重合，其他區(qū)域與負壓平臺的金屬材質(zhì)區(qū)域相重合；活化PDLC膜的液晶層；根據(jù)半切斷區(qū)域，切割并撕下位于液晶層上面的PET層和導(dǎo)電層，將活化后的液晶層清掃掉露出位于液晶層下面的導(dǎo)電層，以形成相應(yīng)的電極。解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的電極制作方法的生產(chǎn)產(chǎn)量較低的技術(shù)問題，達到了提高生產(chǎn)產(chǎn)量的技術(shù)效果。??