一種掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810181739.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108388076B 公開（公告）日 2021-10-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN108388076B 申請(qǐng)公布日 2021-10-01
分類號(hào) G03F1/00（2012.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 劉瀏;張鶴群;彭金寶;石鵬程;楊龍根;張偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 合肥京東方光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 汪源;陳源
地址 100015北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋路10號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系統(tǒng)，該掩膜版包括本體和位于本體上的第一曝光圖案、第二曝光圖案和位于所述第一曝光圖案和所述第二曝光圖案之外的遮光圖案，第一曝光圖案用于當(dāng)?shù)谝还饩€照射時(shí)透光且當(dāng)?shù)诙饩€照射時(shí)不透光，第二曝光圖案用于當(dāng)?shù)诙饩€照射時(shí)透光且當(dāng)?shù)谝还饩€照射時(shí)不透光。本發(fā)明僅通過單張掩膜版即可實(shí)現(xiàn)多條產(chǎn)線的掩膜功能，有效降低了生產(chǎn)成本。