一種高亮度深紫外LED用圖形化藍寶石襯底及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010472434.7 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN111613704B | 公開(公告)日 | 2021-05-18 |
| 申請公布號 | CN111613704B | 申請公布日 | 2021-05-18 |
| 分類號 | H01L33/20;H01L33/12;H01L33/46;H01L33/00 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 徐良;郭煒;孫海定;李昌勛;史偉言;劉建哲;李京波;夏建白 | 申請(專利權(quán))人 | 黃山博藍特半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 蕪湖眾匯知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 曹宏筠 |
| 地址 | 245000 安徽省黃山市黃山九龍低碳經(jīng)濟園區(qū)翠薇北路66號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種高亮度深紫外LED用圖形化藍寶石襯底及其制備方法。該藍寶石襯底,包括藍寶石晶片,所述藍寶石晶片包括晶片C面,在晶片C面上分布有刻蝕孔,所述刻蝕孔包括底部沉孔和擴孔,所述晶片C面及擴孔的表面沉積有一層AlN/AlGaN薄膜,所述底部沉孔內(nèi)設(shè)置有納米級圖形或DBR反射層。該高亮度深紫外LED用圖形化藍寶石襯底的制備方法依次為涂膠、納米壓印,刻蝕,沉積AlN/AlGaN薄膜,涂膠,曝光、顯影,刻蝕,涂膠,曝光、顯影,沉積納米晶?;虺练eDBR反射層等工序。通過本發(fā)明獲得的圖形化藍寶石襯底結(jié)構(gòu),能夠顯著提高藍寶石晶片的深紫外光折射率,進而大幅度提高LED器件的光提取率,最終提高UVCLED的亮度,該圖形化襯底技術(shù)可廣泛應(yīng)用于UVCLED制造領(lǐng)域。 |





