一種蒸鍍復合金屬膜層用的子母坩堝裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710695440.7 申請日 -
公開（公告）號 CN107267923B 公開（公告）日 2019-05-17
申請公布號 CN107267923B 申請公布日 2019-05-17
分類號 C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 應世強; 尹忠樂; 李術杰 申請（專利權）人 佛山市南海區(qū)晶鼎泰智能科技有限公司
代理機構 廣州科粵專利商標代理有限公司 代理人 佛山市南海區(qū)晶鼎泰智能科技有限公司
地址 528200 廣東省佛山市南海區(qū)獅山鎮(zhèn)獅中村貝奇科技工業(yè)園自編1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明開發(fā)了一種蒸鍍復合金屬膜層用的子母坩堝裝置，包括基座，其特征是：在基座上設有母坩堝和若干個子坩堝模塊；所述基座上預留有母坩堝安裝槽，所述母坩堝安裝在所述母坩堝安裝槽中；所述的若干個子坩堝模塊是圍繞母坩堝的外輪廓均布在基座上的；每個所述的子坩堝模塊包括子坩堝底座、子坩堝、電子槍和驅(qū)動缸；所述子坩堝底座鉸接在所述基座的表面；所述子坩堝和電子槍均固定在所述子坩堝底座表面，所述驅(qū)動缸的推桿連接在所述子坩堝的底部；所述子坩堝可相對基座在母坩堝的外周上方翻轉(zhuǎn)；每個所述的子坩堝與母坩堝之間均設有傾斜于基座的表面設置的引流槽。該發(fā)明具有制備高效、膜層均勻和人成本低等優(yōu)點。