低柵電容的絕緣柵雙極型晶體管
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201110239216.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN102263129A | 公開(公告)日 | 2011-11-30 |
| 申請公布號 | CN102263129A | 申請公布日 | 2011-11-30 |
| 分類號 | H01L29/739(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 屈志軍;曾祥 | 申請(專利權(quán))人 | 無錫鳳凰半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州裕陽專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 應(yīng)圣義 |
| 地址 | 214131 江蘇省無錫市濱湖經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)高凱路8號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種低柵電容的絕緣柵雙極型晶體管,包括多晶柵極區(qū)poly、摻雜區(qū)、氧化層、金屬層METAL,多晶柵極區(qū)poly設(shè)于氧化層內(nèi),其特征在于:所述的多晶柵極區(qū)poly分為第一區(qū)、第二區(qū)、所述的第一區(qū)設(shè)于第二區(qū)內(nèi),通過環(huán)形槽隔開;所述的第一區(qū)與金屬層METAL間的氧化層設(shè)有開口,第一區(qū)與金屬層METAL通過引線孔連接。新結(jié)構(gòu)相比于傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)飽和電流下降約50%。 |





