一種超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110762817.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113638014B 公開（公告）日 2022-05-24
申請公布號 CN113638014B 申請公布日 2022-05-24
分類號 C25D1/04（2006.01）I;C25D3/38（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設備〔4〕;
發(fā)明人 曹露;黃國平;江明;張中明;李瑞強 申請（專利權）人 安徽華創(chuàng)新材料股份有限公司
代理機構 北京圣州專利代理事務所（普通合伙） 代理人 -
地址 244000安徽省銅陵市經濟技術開發(fā)區(qū)翠湖四路西段3699號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產方法，包括以下步驟：配置電解液進行哈林槽打片，每次1.5L，根據多種添加劑體系要求，添加相應的添加劑，電解液參數按照要求進行，電解液濃度為1?20ppm；哈林槽加液1.5L，添加劑按照濃度添加，充分攪拌均勻，電流26.5A，通電50s，控制槽壓4.5?5.5V，電鍍結束后?用純水沖洗，然后用吹風機吹干；將銅箔從陰極板剝下，檢測光澤度、抗拉強度，添加劑實驗每批次實驗結束后換液。本發(fā)明采用上述一種超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產方法，同時提升了銅箔的常溫抗拉強度及延伸率，工藝簡單，6μm高抗銅箔外觀無差異。