一種基板臺、沉積部和微波等離子化學氣相沉積裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202020865177.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN212316283U | 公開(公告)日 | 2021-01-08 |
| 申請公布號 | CN212316283U | 申請公布日 | 2021-01-08 |
| 分類號 | C30B25/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 王壘;溫簡杰 | 申請(專利權)人 | 上海昌潤極銳超硬材料有限公司 |
| 代理機構 | 上海光華專利事務所(普通合伙) | 代理人 | 上海昌潤極銳超硬材料有限公司 |
| 地址 | 201111上海市閔行區(qū)陪昆路206號第18幢101室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型提供一種基板臺、沉積部和微波等離子化學氣相沉積裝置,該基板臺包括基板、兩個以上熱電偶、兩個以上加熱單元和控制單元;所述基板底部設有兩個以上凹槽,所述熱電偶和所述加熱單元設于所述凹槽內(nèi);所述控制單元與所述熱電偶和所述加熱單元連通。本實用新型降低基板的溫差,使其更適合多晶或單晶的制備。?? |





