一種雙層孔離子引出和加速裝置
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911387938.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN111093312B | 公開(公告)日 | 2021-11-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111093312B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-16 |
| 分類號(hào) | H05H1/24(2006.01)I;H05H1/54(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
| 發(fā)明人 | 楊溫淵;董燁;周前紅;董志偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京應(yīng)用物理與計(jì)算數(shù)學(xué)研究所 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京安度修典專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 楊方成 |
| 地址 | 100094北京市海淀區(qū)豐豪東路2號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種新型雙層孔離子引出和加速系統(tǒng),該系統(tǒng)為圓柱狀結(jié)構(gòu),包括陰極、第一陽(yáng)極和第二陽(yáng)極,整體系統(tǒng)沿圓柱中心軸為旋轉(zhuǎn)對(duì)稱結(jié)構(gòu),陰極與第一陽(yáng)極之間通過(guò)第一絕緣介質(zhì)隔離,第一陽(yáng)極與第二陽(yáng)極之間通過(guò)第二絕緣介質(zhì)隔離;從系統(tǒng)的中心剖面來(lái)看,陰極圍成了等離子體區(qū),等離子體區(qū)為矩形,陰極在靠近第一陽(yáng)極的邊界中心處設(shè)置有第一引出孔;第一陽(yáng)極的中心位置處設(shè)置有第二引出孔;第一陽(yáng)極和第二陽(yáng)極之間形成離子加速區(qū),離子加速區(qū)為真空區(qū);等離子體區(qū)的離子經(jīng)第一引出孔和第二引出孔引出,然后經(jīng)過(guò)離子加速區(qū)加速后打到第二陽(yáng)極上。本發(fā)明具有顯著提高離子源引出離子和到靶離子流強(qiáng)度以及改善到靶離子流時(shí)間波形的益處。 |





