一種像素化量子點(diǎn)濾光膜的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910189557.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109814191B 公開(kāi)（公告）日 2021-08-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN109814191B 申請(qǐng)公布日 2021-08-03
分類(lèi)號(hào) G02B5/20（2006.01）I 分類(lèi) 光學(xué);
發(fā)明人 孫小衛(wèi);王愷;方凡;徐冰;楊鴻程;李祥;劉乙樽 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 深圳撲浪創(chuàng)新科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 代理人 鞏克棟
地址 518000廣東省深圳市龍崗區(qū)布吉街道甘李工業(yè)區(qū)甘李六路12號(hào)中海信創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)城18A棟8層2-3單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種像素化量子點(diǎn)濾光膜的制備方法，所述制備方法包括如下步驟：（1）將像素化的金屬模板置于基膜上，然后將量子點(diǎn)溶液涂覆在金屬模板上；（2）除去量子點(diǎn)溶液的溶劑后去除金屬基板，得到所述像素化量子點(diǎn)濾光膜。本發(fā)明通過(guò)金屬模板的輔助，將溶劑中量子點(diǎn)限制在基膜的固定位置上，可以使本發(fā)明最后得到的濾光膜圖案完整，且本發(fā)明是通過(guò)金屬模板的輔助，溶劑和基膜的相互作用，可以確保量子點(diǎn)在制備過(guò)程中不會(huì)發(fā)生熒光猝滅，最后得到的濾光膜均勻性好，穩(wěn)定性好；本發(fā)明提供的制備方法簡(jiǎn)單易行，對(duì)設(shè)備要求極低。