膜層物質的光譜聯(lián)用分析方法及其應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010101162.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113281266A 公開（公告）日 2021-08-20
申請公布號 CN113281266A 申請公布日 2021-08-20
分類號 G01N21/21（2006.01）I;G01N21/67（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 孫瑤;宋斌斌;趙笑昆;鐘大龍 申請（專利權）人 神華（北京）光伏科技研發(fā)有限公司
代理機構 北京潤平知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 劉依云;喬雪微
地址 102209北京市昌平區(qū)北七家鎮(zhèn)未來科技城定泗路237號都市綠洲313A室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及多層膜的光譜分析技術領域，公開一種膜層物質的光學常數(shù)和介電常數(shù)的測量方法及其應用。該測量方法包括：（1）對膜層物質進行深度剖析光譜測試，得到膜層物質沿厚度方向上的元素組成分布光譜數(shù)據(jù)；（2）對膜層物質進行橢圓偏振測試，得到膜層物質的橢偏參數(shù)；（3）根據(jù)所述元素組成分布光譜數(shù)據(jù)，構建所述膜層物質的層結構和確定各層結構的成分組成，建立所述膜層物質的結構模型；（4）根據(jù)菲涅爾公式，將所述膜層物質的結構模型和橢偏參數(shù)進行迭代擬合，得到光學常數(shù)和介電常數(shù)。本發(fā)明采用將深度剖析后的輸出數(shù)據(jù)作為橢圓偏振光譜儀的測試輸入，快速有效的將傳遞函數(shù)信息作為建模依據(jù)，實現(xiàn)各種多層膜結構的光學常數(shù)/介電常數(shù)獲得。