減反射復合膜及其制備方法和應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911112457.0 申請日 -
公開（公告）號 CN112885906A 公開（公告）日 2021-06-01
申請公布號 CN112885906A 申請公布日 2021-06-01
分類號 H01L31/0216;H01L31/0445;H01L31/18 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 邱陽;李博研;鐘大龍;宋斌斌;姜鑫先;張樹旺;張波 申請（專利權(quán)）人 神華（北京）光伏科技研發(fā)有限公司
代理機構(gòu) 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉依云;喬雪微
地址 102209 北京市昌平區(qū)北七家鎮(zhèn)未來科技城定泗路237號都市綠洲313A室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及減反射膜領域，公開了減反射復合膜及其制備方法和應用。所述減反射復合膜包含依次層疊的A膜層、第二材料膜，所述A膜層包含連續(xù)交替層疊的SiO2膜、第一材料膜，SiO2膜、第一材料膜的連續(xù)交替層疊次數(shù)大于等于4，其中，第一材料膜的折射率為1.95?2.41，厚度為12?150nm；所述SiO2膜的折射率為1.45?1.47，厚度為12?200nm；第二材料膜的折射率為1.35?1.39，厚度為90?120nm。本發(fā)明所述的減反射復合膜不僅具有較強的寬光譜減反射效果，而且在膜系設計及膜料選擇上充分考慮薄膜的應力匹配問題，使各膜層間具有較高的界面結(jié)合強度，延長產(chǎn)品的使用壽命。