振打自清潔沉淀裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120057945.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214344626U 公開(kāi)（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN214344626U 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) B01D21/02（2006.01）I;B01D21/00（2006.01）I;B01D21/30（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 李杰;梁思懿 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中冶京誠(chéng)工程技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙燕力;臧微微
地址 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)建安街7號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型為一種振打自清潔沉淀裝置，該振打自清潔沉淀裝置包括沉淀池和填料框架，所述填料框架能活動(dòng)地設(shè)置于所述沉淀池內(nèi)，所述填料框架內(nèi)填充有填料，所述填料框架上設(shè)置有檢測(cè)所述填料框架位移信息的位移傳感器和能帶動(dòng)所述填料框架在所述沉淀池內(nèi)發(fā)生振動(dòng)的至少一個(gè)振打器。本實(shí)用新型解決了沉淀池內(nèi)的填料易被污堵且不易發(fā)現(xiàn)，造成填料凈水能力下降、使用周期縮短的技術(shù)問(wèn)題。