一種光掩模板保護(hù)裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010543138.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111736425B 公開（公告）日 2021-08-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN111736425B 申請(qǐng)公布日 2021-08-31
分類號(hào) G03F1/82（2012.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 顧崢;伍強(qiáng);李艷麗 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海集成電路研發(fā)中心有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 吳世華;張磊
地址 201210上海市浦東新區(qū)張江高斯路497號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光掩模板保護(hù)裝置，包括：一對(duì)反射鏡，所述反射鏡相對(duì)平行設(shè)置；激光管，設(shè)于其中一個(gè)所述反射鏡的一端，用于以一定的傾斜角度，向?qū)γ娴牧硪粋€(gè)所述反射鏡發(fā)射激光束；其中，利用所述激光束在兩個(gè)所述反射鏡之間來回反射，在光掩模板上形成激光阻擋網(wǎng)，使污染顆粒在受到激光束沖擊后發(fā)生移動(dòng)，并從所述光掩模板的關(guān)鍵區(qū)域上移除。本發(fā)明能有效防止顆粒污染光掩模板，減少有機(jī)物污染，避免缺陷印刷，并能提高成品率，提高光刻的工作效率。