一種實現(xiàn)免洗靶功能的封閉靶倉設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110266053.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113061867A 公開（公告）日 2021-07-02
申請公布號 CN113061867A 申請公布日 2021-07-02
分類號 C23C14/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 戰(zhàn)永剛;戰(zhàn)捷;馮紅濤;周林;尹強 申請（專利權）人 深圳市三束鍍膜技術有限公司
代理機構 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 代理人 劉曰瑩;袁曼曼
地址 518000 廣東省深圳市龍華區(qū)福城街道福民社區(qū)核電工業(yè)園5號101
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種實現(xiàn)免洗靶功能的封閉靶倉設備，包括艙體和濺射靶，濺射靶設于艙體內(nèi)；艙體外還設有：門框、艙門和鎖緊裝置，艙體上設有開口，門框安裝于開口上，艙門與門框相配合實現(xiàn)對艙體的關閉與打開；濺射靶朝向艙門的方向設置；鎖緊裝置作用于艙門，將艙門鎖緊于門框上或?qū)⑴撻T從門框上解鎖，艙門鎖緊于門框上時，艙體形成一密閉容器。本發(fā)明通過將濺射靶置于艙體內(nèi)，并對艙體設置艙門和鎖緊裝置，當達到濺射的真空要求時將艙門打開，進行濺射鍍膜操作，操作完成后在真空環(huán)境下將艙門關閉并鎖緊，使濺射靶真空密封于艙體內(nèi)，大大減少了被氧化的情況，實現(xiàn)了濺射靶的免洗靶功能，且大大提高了濺射膜的純度和反射率。