氧化石墨烯膜涂布系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110098497.5 申請日 -
公開（公告）號 CN112916332A 公開（公告）日 2021-06-08
申請公布號 CN112916332A 申請公布日 2021-06-08
分類號 B05C11/04;B05C11/10;B05C13/02 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 周步存;盧靜;周仁杰 申請（專利權(quán)）人 常州富烯科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京世衡知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 肖淑芳;康穎
地址 213100 江蘇省常州市武進(jìn)區(qū)西太湖科技產(chǎn)業(yè)園錦程路36號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種氧化石墨烯膜涂布系統(tǒng)，包括涂布輥，涂布輥上張緊連接有涂布基底，與涂布輥相鄰設(shè)置有刮刀，涂布輥處于涂布基底遠(yuǎn)離涂布輥的一側(cè)，且刮刀與涂布基底的涂布側(cè)之間形成涂布間隙，還包括料槽，料槽具有進(jìn)料口與出料口，出料口與涂布基底的涂布側(cè)對應(yīng)設(shè)置，進(jìn)料口處設(shè)有擠壓模頭，擠壓模頭能夠?qū)⒀趸{料擠壓入料槽內(nèi)。本發(fā)明利用擠壓模頭的擠壓將氧化石墨烯漿料擠壓上料至料槽內(nèi)，能夠在料槽內(nèi)得到液面平整的漿料，料槽內(nèi)的漿料在自身重量的壓力作用下通過刮刀與涂布基底的涂布側(cè)之間的涂布間隙，流動涂布于涂布基底的涂布側(cè)，從而形成厚度均勻的氧化石墨烯濕膜。