測量薄膜光學(xué)常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計(jì)算設(shè)備和存儲介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110225675.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112964651A 公開（公告）日 2021-06-15
申請公布號 CN112964651A 申請公布日 2021-06-15
分類號 G01N21/25（2006.01）I;G01N21/45（2006.01）I;G01N21/47（2006.01）I;G01N21/59（2006.01）I;G06F17/15（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 范靈杰;陳昂;石磊;李同宇;殷海瑋 申請（專利權(quán)）人 上海復(fù)享光學(xué)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市金杜律師事務(wù)所 代理人 黃倩
地址 200433上海市楊浦區(qū)國定東路200號4號樓412-1室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及一種用于測量薄膜光學(xué)常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計(jì)算設(shè)備和存儲介質(zhì)，該方法包括：獲取關(guān)于待測對象的第一光譜數(shù)據(jù)，第一光譜數(shù)據(jù)至少指示待測對象在入射光的多個(gè)波長下、對應(yīng)于多個(gè)測量角度的反射率；基于第一光譜數(shù)據(jù)，提取預(yù)定波長下的第一光譜數(shù)據(jù)，預(yù)定波長下的第一光譜數(shù)據(jù)指示待測對象在預(yù)定波長下、對應(yīng)于多個(gè)測量角度的反射率；確定預(yù)定波長下的第一光譜數(shù)據(jù)中的最大反射率和最小反射率、第一測量角度和第二測量角度；以及基于最大反射率、最小反射率、第一測量角度和第二測量角度，確定待測薄膜在預(yù)定波長下的折射率。本公開能夠?qū)崿F(xiàn)無需提前假設(shè)薄膜光學(xué)常數(shù)滿足的模型，以及準(zhǔn)確測量薄膜的光學(xué)常數(shù)。