測(cè)量薄膜光學(xué)常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計(jì)算設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111130599.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113884445A 公開(kāi)（公告）日 2022-01-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN113884445A 申請(qǐng)公布日 2022-01-04
分類(lèi)號(hào) G01N21/25（2006.01）I;G06N3/04（2006.01）I;G06N3/08（2006.01）I 分類(lèi) 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 范靈杰;陳昂;石磊;殷?，|;李同宇;李政紅;盧國(guó)鵬;金鴻銘 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 上海復(fù)享光學(xué)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市金杜律師事務(wù)所 代理人 馬明月
地址 200433上海市楊浦區(qū)國(guó)定東路200號(hào)4號(hào)樓412-1室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開(kāi)涉及一種用于測(cè)量薄膜光學(xué)常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計(jì)算設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)，該方法包括：獲取光源所發(fā)出的多個(gè)波長(zhǎng)的入射光的光源光譜數(shù)據(jù)；獲取關(guān)于待測(cè)薄膜的出射光譜數(shù)據(jù)，出射光譜數(shù)據(jù)是利用所述入射光對(duì)包括多層的薄膜層的待測(cè)薄膜進(jìn)行測(cè)量而生成的；基于所述光源光譜數(shù)據(jù)和所述出射光譜數(shù)據(jù)，計(jì)算實(shí)測(cè)光譜數(shù)據(jù)，所述實(shí)測(cè)光譜數(shù)據(jù)至少指示所述待測(cè)薄膜在入射光的多個(gè)波長(zhǎng)下的反射率或透射率；將光源光譜數(shù)據(jù)輸入用于仿真待測(cè)薄膜中的光的傳播特性的薄膜網(wǎng)絡(luò)模型，以便薄膜網(wǎng)絡(luò)模型所輸出的關(guān)于待測(cè)薄膜的模擬光譜數(shù)據(jù)接近所述實(shí)測(cè)光譜數(shù)據(jù)；以及基于所述薄膜網(wǎng)絡(luò)模型的參數(shù)，確定所述待測(cè)薄膜的折射率和薄膜層的薄膜主體的厚度中的至少一個(gè)。本公開(kāi)能夠快速實(shí)現(xiàn)多層薄膜的光學(xué)參數(shù)的量測(cè)。