測量薄膜光學常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計算設備和存儲介質

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110225675.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112964651B 公開（公告）日 2022-01-04
申請公布號 CN112964651B 申請公布日 2022-01-04
分類號 G01N21/25（2006.01）I;G01N21/45（2006.01）I;G01N21/47（2006.01）I;G01N21/59（2006.01）I;G06F17/15（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 范靈杰;陳昂;石磊;李同宇;殷海瑋 申請（專利權）人 上海復享光學股份有限公司
代理機構 北京市金杜律師事務所 代理人 黃倩
地址 200433上海市楊浦區(qū)國定東路200號4號樓412-1室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及一種用于測量薄膜光學常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計算設備和存儲介質，該方法包括：獲取關于待測對象的第一光譜數(shù)據，第一光譜數(shù)據至少指示待測對象在入射光的多個波長下、對應于多個測量角度的反射率；基于第一光譜數(shù)據，提取預定波長下的第一光譜數(shù)據，預定波長下的第一光譜數(shù)據指示待測對象在預定波長下、對應于多個測量角度的反射率；確定預定波長下的第一光譜數(shù)據中的最大反射率和最小反射率、第一測量角度和第二測量角度；以及基于最大反射率、最小反射率、第一測量角度和第二測量角度，確定待測薄膜在預定波長下的折射率。本公開能夠實現(xiàn)無需提前假設薄膜光學常數(shù)滿足的模型，以及準確測量薄膜的光學常數(shù)。