一種雙軸晶體主軸方向光學(xué)均勻性的測試裝置及測試方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910987283.6 申請日 -
公開（公告）號 CN110596042A 公開（公告）日 2019-12-20
申請公布號 CN110596042A 申請公布日 2019-12-20
分類號 G01N21/45（2006.01）; G01B11/24（2006.01） 分類 測量；測試;
發(fā)明人 吳文淵; 何小玲; 張昌龍; 盧福華; 王金亮; 周海濤; 李東平; 覃世杰; 左艷彬; 宋旭東 申請（專利權(quán)）人 桂林百銳光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 唐智芳
地址 541004 廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)高新區(qū)鐵山工業(yè)園鐵山路20號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種雙軸晶體主軸方向光學(xué)均勻性的測試裝置及測試方法。所述的測試裝置包括沿光軸方向依次設(shè)置的光源、聚光透鏡、準(zhǔn)直透鏡、起偏器、相位補(bǔ)償器、檢偏器、成像鏡頭和相機(jī)，待測晶體置于相位補(bǔ)償器和檢偏器之間，所述的相位補(bǔ)償器由兩塊光楔構(gòu)成，通過調(diào)節(jié)兩塊光楔的相對位置來調(diào)節(jié)相位延遲量，其中所述光楔的材質(zhì)為成分與待測晶體相同且光學(xué)均勻性好的晶體。本發(fā)明所述裝置結(jié)構(gòu)簡單、成本低廉且便于維護(hù)。與傳統(tǒng)測試方法相比，本發(fā)明所述方法無需反復(fù)測試背景干擾及不同偏振態(tài)激光通過晶體形成干涉圖，受環(huán)境影響小，測試效率高、適合批量化的生產(chǎn)檢測；而且本發(fā)明所述方法操作簡單、對測試晶體的加工要求不高，易于推廣使用。