一種高透明高耐熱聚酰亞胺薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010190478.0 申請日 -
公開（公告）號 CN111205644A 公開（公告）日 2020-05-29
申請公布號 CN111205644A 申請公布日 2020-05-29
分類號 C08L79/08;C08K9/06;C08K3/36;C08J5/18 分類 有機高分子化合物；其制備或化學加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 周浪 申請（專利權）人 無錫創(chuàng)彩光學材料有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 214000 江蘇省無錫市濱湖區(qū)胡埭工業(yè)園北區(qū)金桂路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種高透明高耐熱聚酰亞胺薄膜及其制備方法，該薄膜具有高透明、高耐熱、耐刮擦等特點，其含有0.01～1wt％含氟硅氧烷接枝改性二氧化硅粒子，且聚酰亞胺分子主鏈中含有雙三氟甲基聯(lián)苯和硅氧烷單元。所述含氟硅氧烷結構式如下所示，其中，X為Cl或甲氧基、乙氧基、碳原子數(shù)1～10的烷基中的任一種；R為碳原子數(shù)為1～20的含氟烷基。含氟硅氧烷接枝改性的二氧化硅粒子及硅氧烷嵌段單元有效提高了聚酰亞胺薄膜的耐熱性能和耐刮擦性；同時改性二氧化硅粒子與含氟含硅聚酰亞胺基體樹脂有良好相容性和分散性，因此聚酰亞胺薄膜保持有高光學透光率和低霧度。本發(fā)明制備的聚酰亞胺薄膜可應用于光學顯示及微電子等領域。