用于承載待鍍膜工件的鍍膜機轉(zhuǎn)架
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202120251068.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN215050662U | 公開(公告)日 | 2021-12-07 |
| 申請公布號 | CN215050662U | 申請公布日 | 2021-12-07 |
| 分類號 | C23C14/50(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 來華杭;婁國明;施成亮;俞峰;周海龍 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江上方電子裝備有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 杭州合信專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 沈自軍 |
| 地址 | 312366浙江省紹興市濱海新城暢和路7號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請?zhí)峁┝艘环N用于承載待鍍膜工件的鍍膜機轉(zhuǎn)架,包括:共軸線布置且繞所述軸線轉(zhuǎn)動配合的兩根樞軸;固定于其中一根樞軸的中心齒盤;固定于另一根樞軸的轉(zhuǎn)架盤;轉(zhuǎn)動安裝于所述轉(zhuǎn)架盤上的多個工件托盤,各工件托盤繞所述中心齒盤分布,各工件托盤的外周帶有與所述中心齒盤嚙合傳動的輪齒,兩根樞軸相對轉(zhuǎn)動時、各工件托盤自轉(zhuǎn)且繞所述中心齒盤公轉(zhuǎn)。本申請的用于承載待鍍膜工件的鍍膜機轉(zhuǎn)架具有公自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)保證鍍膜的均勻性和一致性,且便于靈活設(shè)置多層工位以滿足多種鍍膜需求,有助于提升生產(chǎn)效率。 |





