基材鍍膜系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010457233.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113718228A 公開(kāi)（公告）日 2021-11-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN113718228A 申請(qǐng)公布日 2021-11-30
分類(lèi)號(hào) C23C16/44（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 來(lái)華杭;俞峰;魯天豪;婁國(guó)明;周海龍 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 浙江上方電子裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州合信專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 沈自軍
地址 312366浙江省紹興市濱海新城暢和路7號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種基材鍍膜系統(tǒng)，包括供氣機(jī)構(gòu)、反應(yīng)爐以及抽氣機(jī)構(gòu)，所述反應(yīng)爐包括第一爐體，以及位于所述第一爐體內(nèi)的第二爐體，所述第一爐體與所述第二爐體之間為中間腔，所述第一爐體開(kāi)設(shè)有排氣口，所述第二爐體具有進(jìn)氣口與出氣口；所述供氣機(jī)構(gòu)通過(guò)工藝氣路與所述進(jìn)氣口相連通；所述抽氣機(jī)構(gòu)通過(guò)抽氣管與所述排氣口相連通，所述第二爐體連接有出氣管，所述出氣管的一端與所述出氣口相連通，另一端穿過(guò)排氣口并延伸至所述抽氣管，且所述出氣管與所述抽氣管之間呈間隙配合，該間隙開(kāi)放于所述中間腔，該方案相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，抽氣機(jī)構(gòu)將第二爐體內(nèi)的工藝氣體抽出時(shí)，能夠避免工藝氣體對(duì)中間腔污染。