全息成像結構及舞臺設備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110744441.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113467213A | 公開(公告)日 | 2021-10-01 |
| 申請公布號 | CN113467213A | 申請公布日 | 2021-10-01 |
| 分類號 | G03H1/22(2006.01)I;G03H1/02(2006.01)I;G03H1/00(2006.01)I;A63J5/02(2006.01)I | 分類 | 攝影術;電影術;利用了光波以外其他波的類似技術;電記錄術;全息攝影術〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 張喆 | 申請(專利權)人 | 北京諦聽視界文化科技有限公司 |
| 代理機構 | 北京中和立達知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 張攀 |
| 地址 | 100016北京市石景山區(qū)實興大街30號院7號樓7層33號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請涉及全息成像領域,尤其是涉及一種全息成像結構及舞臺設備。全息成像結構包括顯示屏、全息介質和影像源;所述顯示屏垂直安裝于基準面,以顯示前景畫面;所述全息介質傾斜安裝于所述顯示屏靠近觀看者的方向,且所述全息介質與所述基準面之間的夾角為第一預設角,所述全息介質的頂端靠近所述顯示屏,所述全息介質的底端遠離所述顯示屏;所述影像源位于所述全息介質背離所述顯示屏的一側,所述影像源的光線入射至全息介質,所述全息介質形成的虛像位于所述顯示屏遠離所述觀看者的一側,以顯示背景畫面。本申請的全息成像結構用于顯示前景畫面及背景畫面兩層畫面,無需對地面做下沉處理,能夠應用于多種場地,安全性更高。 |





