光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200820034064.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN201177730Y 公開(kāi)（公告）日 2009-01-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN201177730Y 申請(qǐng)公布日 2009-01-07
分類號(hào) G03F1/00(2006.01);B08B11/00(2006.01);B08B3/04(2006.01) 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 徐飛;金海濤 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 常州瑞科微電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 常州市維益專利事務(wù)所 代理人 賈海芬
地址 213022江蘇省常州市新北區(qū)漢江路376號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種光掩模清洗機(jī)的工藝處理艙，屬于光掩模清洗機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。主要包括外罩、內(nèi)套和頂蓋，所述的外罩由從上到下依次密封連接的上罩、中罩和底罩構(gòu)成，上罩具有圓錐形的罩壁，中罩的罩壁上設(shè)有一個(gè)抽氣口，且中罩內(nèi)具有一個(gè)倒錐形的擋流圈，擋流圈延伸并超過(guò)抽氣口，具有排液口的底罩與內(nèi)套的下部密封連接，頂蓋密封安裝在內(nèi)套的上部。本實(shí)用新型具有能減少對(duì)光掩模交叉污染，提高光掩模清洗效率的特點(diǎn)。