用于晶圓電鍍的無氰電鍍金液及其應(yīng)用和晶圓電鍍金的方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111243056.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113981495B | 公開(公告)日 | 2022-05-27 |
| 申請公布號 | CN113981495B | 申請公布日 | 2022-05-27 |
| 分類號 | C25D3/48(2006.01)I;C25D7/12(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 王彤;任長友;鄧川;劉鵬 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市聯(lián)合藍(lán)海應(yīng)用材料科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 518020廣東省深圳市羅湖區(qū)筍崗街道筍西社區(qū)寶安北路1007號筍崗七號倉七層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及晶圓電鍍金領(lǐng)域,公開了用于晶圓電鍍的無氰電鍍金液及其應(yīng)用和晶圓電鍍金的方法。所述無氰電鍍金液包含:金源、導(dǎo)電鹽、穩(wěn)定劑、緩沖劑、調(diào)節(jié)劑和式(1)所示的聚季銨鹽,其中,R1、R2各自獨立地為C1?C30的直鏈或支鏈的脂肪族、脂環(huán)族或芳香族基團(tuán);X為鹵離子,n為2?100的整數(shù)??梢杂行Ц纳凭A上鍍金厚度的均勻性,超過技術(shù)指標(biāo)要求。 |





