鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200910308414.X 申請日 -
公開（公告）號 CN102230163B 公開（公告）日 2013-07-31
申請公布號 CN102230163B 申請公布日 2013-07-31
分類號 C23C14/56(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王仲培 申請（專利權(quán)）人 南通市崇川科技創(chuàng)業(yè)服務中心有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 518109 廣東省深圳市寶安區(qū)龍華鎮(zhèn)油松第十工業(yè)區(qū)東環(huán)二路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種鍍膜裝置，包括一個鍍膜室、多個靶材、多個擋板以及多個驅(qū)動機構(gòu)，所述多個靶材與多個擋板一一對應地設置于鍍膜室內(nèi)，每個驅(qū)動機構(gòu)均包括驅(qū)動馬達、與驅(qū)動馬達相連接的齒輪以及與齒輪嚙合的齒軌，所述驅(qū)動馬達用于驅(qū)動齒輪轉(zhuǎn)動，所述齒輪用于在驅(qū)動馬達的驅(qū)動下帶動齒軌移動，所述多個驅(qū)動機構(gòu)的齒軌與所述多個擋板一一對應，每個齒軌均固設于一個與其對應的擋板，用于通過與齒輪的嚙合帶動該擋板相對于與該擋板對應的靶材移動，以使得擋板與該靶材相對從而遮蔽該靶材或者使得擋板與該靶材相背從而暴露該靶材。