垂直型III-V族超晶格材料、具有超晶格分布的InGaAsSb四元合金及制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010846114.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN111934200A | 公開(公告)日 | 2020-11-13 |
| 申請公布號 | CN111934200A | 申請公布日 | 2020-11-13 |
| 分類號 | H01S5/34(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 杜鵬 | 申請(專利權(quán))人 | 湖南科萊特光電有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 湖南科萊特光電有限公司 |
| 地址 | 410000湖南省長沙市雨花區(qū)振華路579號康庭園一期18號棟北側(cè)一層、二層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種垂直型III?V族超晶格材料、具有超晶格分布的InGaAsSb四元合金及制備方法,涉及半導(dǎo)體材料技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明的垂直型III?V族超晶格材料包括:具有傾角且呈臺階狀的襯底,以及,位于襯底上且垂直襯底的超晶格半導(dǎo)體結(jié)構(gòu);超晶格半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括垂直襯底分布且交替疊置的第一材料豎層和第二材料豎層,襯底的每個臺階上分布有一個周期的第一材料豎層和第二材料豎層,第一材料豎層和所述第二材料豎層形成超晶格結(jié)構(gòu);第一材料豎層包括重復(fù)層疊生長的第一材料單分子層;第二材料豎層包括重復(fù)層疊生長的第二材料單分子層;第一材料和第二材料為不同的III?V族化合物。這種新型超晶格結(jié)構(gòu)具有縱向的載流子傳輸優(yōu)勢。?? |





