一種半導(dǎo)體硅片用清洗裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022278024.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN213826091U 公開(kāi)（公告）日 2021-07-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN213826091U 申請(qǐng)公布日 2021-07-30
分類號(hào) B08B3/02（2006.01）I;B08B1/02（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 余濤;樸靈緒;郭巍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 若名芯半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州銘浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 朱斌兵
地址 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城西北區(qū)4棟101室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體硅片用清洗裝置，包括支撐組件；滾軸組件設(shè)于所述支撐組件上，且滾軸組件由多個(gè)滾軸構(gòu)成，滾軸的中部沿其周向開(kāi)有限位槽；多個(gè)所述滾軸可同步靠近將硅片夾緊在由多個(gè)限位槽構(gòu)成的限位空間內(nèi)，并帶動(dòng)硅片進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；噴嘴設(shè)于所述滾軸組件的上方，用于將藥液噴射到硅片表面；清洗組件設(shè)于所述滾軸組件的一側(cè)；當(dāng)所述滾軸組件帶動(dòng)硅片轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，清洗組件同步對(duì)硅片的端面、上表面和下面進(jìn)行清洗，本實(shí)用新型的半導(dǎo)體硅片用清洗裝置，操作方便，實(shí)用性強(qiáng)，可以安全有效的對(duì)硅片的端面和上下表面進(jìn)行清洗，不會(huì)對(duì)硅片造成二次污染，提升了硅片的清洗效率和清洗質(zhì)量，符合市場(chǎng)需求，具有較好的推廣價(jià)值。