一種硅片用超聲波清洗機(jī)構(gòu)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022266861.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN214600733U | 公開（公告）日 | 2021-11-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214600733U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-05 |
| 分類號(hào) | B08B3/12（2006.01）I;B08B3/08（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分類 | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 余濤;樸靈緒;郭巍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 若名芯半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州銘浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 朱斌兵 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城西北區(qū)4棟101室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種硅片用超聲波清洗機(jī)構(gòu)，包括容納槽、排液框、硅片放置盒、旋轉(zhuǎn)電機(jī)、超聲波設(shè)備和導(dǎo)流管；所述容納槽內(nèi)具有容置空間，且所述容納槽的一側(cè)頂部設(shè)有溢流槽；所述排液框設(shè)于所述溢流槽一側(cè)；所述硅片放置盒設(shè)于所述容置空間內(nèi)，且所述硅片放置盒用于放置多個(gè)硅片；所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)設(shè)于所述硅片放置盒的頂部，用于驅(qū)動(dòng)硅片放置盒進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；所述超聲波設(shè)備設(shè)于所述容納槽的外壁上；所述導(dǎo)流管設(shè)于所述容納槽內(nèi)，用于導(dǎo)流清洗液，本實(shí)用新型利用超聲波設(shè)備配合藥液對(duì)硅片進(jìn)行清洗，同時(shí)利用旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)硅片在超聲波設(shè)備工作時(shí)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，從而避免了硅片上存在清洗的死角區(qū)域，確保了硅片的清洗效率和質(zhì)量均達(dá)到要求。 |
