一種CMP后清洗用晶圓夾持裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202021602402.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN213093187U | 公開(公告)日 | 2021-04-30 |
| 申請公布號 | CN213093187U | 申請公布日 | 2021-04-30 |
| 分類號 | H01L21/687 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 余濤;唐杰;樸靈緒;張霞;郭巍 | 申請(專利權(quán))人 | 若名芯半導體科技(蘇州)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 蘇州銘浩知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 朱斌兵 |
| 地址 | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)4棟101室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及一種CMP后清洗用晶圓夾持裝置,包括:轉(zhuǎn)盤;至少兩個支撐部,支撐部設于轉(zhuǎn)盤上;至少兩個夾持部,至少兩個夾持部可相互靠近/遠離的設于轉(zhuǎn)盤上,且夾持部位于所述支撐部的外側(cè),所述夾持部上具有夾持槽;其中,當所述夾持部相互靠近將晶圓夾持時,支撐部與晶圓之間留有空隙,夾持槽與晶圓邊緣處相接觸包括,本實用新采用支撐部和夾持部分段式的結(jié)構(gòu),支撐部只起到初始承載作用,當夾持部夾持在晶圓邊緣部分時,支撐部與晶圓留有空隙;而夾持部夾持在晶圓邊緣不大于0.5mm的位置處,在這個位置不會有線路存在,不會影響后續(xù)晶圓的使用性能,從而可以保證晶圓能被清洗甩干,確保了晶圓的使用性能,整體的改進簡單,且改進成本低。 |





