一種CVD金剛石厚膜的晶種種植方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201810307217.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN108411276A | 公開(公告)日 | 2018-08-17 |
| 申請公布號 | CN108411276A | 申請公布日 | 2018-08-17 |
| 分類號 | C23C16/02;C23C16/27 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 樊巍;范艷芬 | 申請(專利權(quán))人 | 河南佰特科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 洛陽潤誠慧創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 河南佰特科技有限公司 |
| 地址 | 471000 河南省洛陽市高新開發(fā)區(qū)延光路火炬創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A5號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種CVD金剛石厚膜的晶種種植方法,涉及金剛石領域,包含如下步驟:首先對鉬襯底的表面進行預處理,處理時鉬襯底上表面要在拋光機上加入金剛石微粉研磨,將鉬襯底表層的碳化鉬去除,使表面光滑顏色光亮無劃痕,要求不存在鉬和碳化鉬分層,接著對鉬襯底進行細磨,細磨用硬質(zhì)合金片加入不同粒度的金剛石微粉進行研磨。本發(fā)明所述的晶種種植方法彌補了現(xiàn)有技術(shù)中CVD金剛石厚膜制造方法尚不規(guī)范的空白,且制備的金剛石厚膜具有穩(wěn)定可靠和沉積速率高等特點,完全能滿足實際需求,本發(fā)明技術(shù)方案簡單,適合大范圍的推廣和應用。 |





