一種金剛石薄膜專用真空爐沉積臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721586297.X 申請日 -
公開（公告）號 CN207608629U 公開（公告）日 2018-07-13
申請公布號 CN207608629U 申請公布日 2018-07-13
分類號 C23C16/27 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 樊巍 申請（專利權(quán)）人 河南佰特科技有限公司
代理機構(gòu) 洛陽明律專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 河南佰特科技有限公司
地址 471000 河南省洛陽市高新開發(fā)區(qū)延光路火炬創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A5號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種金剛石薄膜專用真空爐沉積臺，包括沉積臺面、沉積座、導柱、升降旋轉(zhuǎn)裝置，所述的沉積臺面設(shè)置在最上部，沉積座設(shè)置在沉積臺面的下部，導柱設(shè)置在沉積座的下部，旋轉(zhuǎn)升降裝置設(shè)置在真空爐的下部與導柱的下端連接；所述的沉積臺面為圓盤結(jié)構(gòu)，沉積臺面上表面為金剛石薄膜的沉積面，下表面上均勻設(shè)置有放射狀的冷卻槽，沉積臺面下表面的中心為半圓形中心凹槽；通過本實用新型的實施，達到了良好的使用效果：該金剛石薄膜專用真空爐沉積臺的結(jié)構(gòu)合理，冷卻效率很高，散熱效果良好，提高了人員的工作效率，由于散熱均勻，有效的減小金剛石薄膜的廢品率和次品率，減少了由此造成浪費和損失。