一種CVD金剛石厚膜的沉積方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810306685.0 申請日 -
公開（公告）號 CN108505016B 公開（公告）日 2020-04-17
申請公布號 CN108505016B 申請公布日 2020-04-17
分類號 C23C16/27 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 樊巍;范艷芬 申請（專利權(quán)）人 河南佰特科技有限公司
代理機構(gòu) 洛陽潤誠慧創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 河南佰特科技有限公司
地址 471000 河南省洛陽市高新開發(fā)區(qū)延光路火炬創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A5號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種CVD金剛石厚膜的沉積方法，本發(fā)明所述的沉積方法制備的金剛石厚膜具有穩(wěn)定可靠和沉積速率高等特點，完全能滿足實際需求，本發(fā)明技術(shù)方案簡單，適合大范圍的推廣和應(yīng)用。