一種CVD金剛石厚膜的沉積方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810306685.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108505016A 公開（公告）日 2018-09-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN108505016A 申請(qǐng)公布日 2018-09-07
分類號(hào) C23C16/27 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 樊巍;范艷芬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 河南佰特科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 洛陽潤(rùn)誠慧創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 河南佰特科技有限公司
地址 471000 河南省洛陽市高新開發(fā)區(qū)延光路火炬創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A5號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種CVD金剛石厚膜的沉積方法，本發(fā)明所述的沉積方法制備的金剛石厚膜具有穩(wěn)定可靠和沉積速率高等特點(diǎn)，完全能滿足實(shí)際需求，本發(fā)明技術(shù)方案簡(jiǎn)單，適合大范圍的推廣和應(yīng)用。