一種GaN基LED外延片的生長(zhǎng)方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201210351407.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN105118900A | 公開(kāi)(公告)日 | 2015-12-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN105118900A | 申請(qǐng)公布日 | 2015-12-02 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L33/00(2010.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B29/38(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 肖志國(guó);關(guān)秋云;楊天鵬;展望;張博;武勝利 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 大連美明外延片科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 116025 遼寧省大連市高新區(qū)高能街1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種GaN基LED外延片的生長(zhǎng)方法,生長(zhǎng)InGaN/GaN多量子阱時(shí),在傳統(tǒng)的生長(zhǎng)條件下,適時(shí)適量的通入氫氣,可以有效的抑制In的團(tuán)簇效應(yīng),從而改善InGaN/GaN界面的平整度,提高出光效率,并且提高了器件的反向電壓,降低了正向電壓。本發(fā)明方法簡(jiǎn)單易行,生長(zhǎng)工藝無(wú)特殊要求,按照標(biāo)準(zhǔn)芯片工藝制作成300微米×300微米的芯片,亮度在原有基礎(chǔ)上提升了10~20%,反向電壓提高了5V以上,正向電壓降低了0.05V以上。 |





