一種基于樣板治具薄膜對(duì)曝光治具薄膜的檢測(cè)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510801228.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN105334706B 公開(kāi)（公告）日 2017-12-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN105334706B 申請(qǐng)公布日 2017-12-19
分類號(hào) G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張文和 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 黃石滬士電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢河山金堂專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黃石滬士電子有限公司
地址 435000 湖北省黃石市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)黃金山工業(yè)新區(qū)金山大道81號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)一種基于樣板治具薄膜對(duì)曝光治具薄膜的檢測(cè)方法，包括如下步驟：S1、在曝光機(jī)中設(shè)置漲縮閾值；S2、將樣板治具薄膜與曝光治具薄膜邊緣對(duì)齊、并層疊設(shè)置在曝光機(jī)上；S3、曝光機(jī)分別對(duì)樣板治具薄膜與曝光治具薄膜上的光學(xué)靶點(diǎn)進(jìn)行自動(dòng)抓取，并進(jìn)行距離運(yùn)算比對(duì)，如果曝光治具薄膜上的光學(xué)靶點(diǎn)相對(duì)樣板治具薄膜上的光學(xué)靶點(diǎn)的差異小于漲縮閾值，則曝光治具薄膜能夠用于PCB板的曝光工藝中，反之則不合格。本發(fā)明的檢測(cè)方法操作簡(jiǎn)單、方便，有利于提高檢測(cè)效率，且直接利用曝光機(jī)上的裝置進(jìn)行檢測(cè)，降低了檢測(cè)成本，同時(shí)可一定程度提高曝光治具薄膜的品質(zhì)。