一種用于離子Flash治療的束流配送系統(tǒng)及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210101304.1 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN114452550A 公開（公告）日 2022-05-10
申請公布號(hào) CN114452550A 申請公布日 2022-05-10
分類號(hào) A61N5/10（2006.01）I 分類 醫(yī)學(xué)或獸醫(yī)學(xué)；衛(wèi)生學(xué);
發(fā)明人 石健;周利榮;芮騰暉;楊春曉;劉志強(qiáng);馬力禎;常城 申請（專利權(quán)）人 國科離子醫(yī)療科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 730087甘肅省蘭州市新區(qū)漢水街3260號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于離子Flash治療的束流配送系統(tǒng)及方法，其特征在于，包括掃描磁鐵、分條電離室和劑量電離室、三維適形裝置和治療控制系統(tǒng)；掃描磁鐵用于將筆形離子束在垂直束流方向的平面內(nèi)進(jìn)行偏轉(zhuǎn)；分條電離室用于實(shí)時(shí)測量束流的位置；劑量電離室用于實(shí)時(shí)測量束流的照射劑量；三維適形裝置根據(jù)靶區(qū)的形狀對應(yīng)設(shè)置，用于產(chǎn)生與靶區(qū)適形的輻照場，以將偏轉(zhuǎn)后的束流照射至靶區(qū)內(nèi)的靶點(diǎn)；治療控制系統(tǒng)用于對三維適形裝置的不同展寬厚度進(jìn)行離子束能量的劑量標(biāo)定，并根據(jù)Flash照射要求，確定靶區(qū)內(nèi)每一靶點(diǎn)上應(yīng)照射的粒子數(shù)，并控制加速器采用調(diào)制掃描模式按照得到的粒子數(shù)進(jìn)行逐點(diǎn)照射，本發(fā)明可以廣泛應(yīng)用于照射放療技術(shù)領(lǐng)域中。