一種正裝GaN基LED微顯示器件及其制作方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201811409855.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN109560100B | 公開(公告)日 | 2021-04-20 |
| 申請公布號 | CN109560100B | 申請公布日 | 2021-04-20 |
| 分類號 | H01L21/762(2006.01)I;H01L33/48(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L27/15(2006.01)I;H01L21/76(2006.01)I;H01L33/64(2010.01)I;H01L33/38(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 閆曉密;張秀敏;華斌;王書宇;田媛 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇新廣聯(lián)科技股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 曹祖良 |
| 地址 | 214192江蘇省無錫市錫山經(jīng)濟開發(fā)區(qū)團結(jié)北路18號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明屬于LED微顯示屏技術(shù)領(lǐng)域,提供一種正裝GaN基LED微顯示器件及其制作方法,包括藍(lán)寶石襯底,在藍(lán)寶石襯底正面設(shè)有若干個呈陣列分布的LED微顯示單元,LED微顯示單元間通過絕緣SU膠隔開;LED微顯示單元包括位于藍(lán)寶石襯底上的緩沖層、N?GaN層、多量子阱、P?GaN層和透明導(dǎo)電層,在N?GaN層上設(shè)有N電極,在N電極和絕緣SU膠上設(shè)有SiO絕緣層,SiO絕緣層上P電極,P電極穿過SiO絕緣層與透明導(dǎo)電層接觸;在藍(lán)寶石襯底背面設(shè)有布拉格反射鏡DBR;本發(fā)明的微顯示器件在LED單元隔離槽內(nèi)填充較厚的絕緣SU8膠,避免了因電極應(yīng)力因素導(dǎo)致的斷路,保證了LED微顯示器件的穩(wěn)定性;同時背面采用布拉格反射鏡DBR,使得器件的出光率更好。?? |





