二次硅料的高溫熔融裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921108574.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN210602767U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-05-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210602767U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-05-22 |
| 分類號(hào) | F27B14/06;F27B14/08;F27B14/14;F27D25/00 | 分類 | 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 陳嘉豪;陳磊;陳輝;王倩 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 樂(lè)山新天源太陽(yáng)能科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都點(diǎn)睛專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 樂(lè)山新天源太陽(yáng)能科技有限公司 |
| 地址 | 614000 四川省樂(lè)山市樂(lè)山高新區(qū)建業(yè)大道888號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種能夠?qū)崿F(xiàn)二次硅料連續(xù)熔融除雜，提高除雜效率的二次硅料的高溫熔融裝置。該二次硅料的高溫熔融裝置，包括底座以及安裝在底座上的熔融爐體；所述熔融爐體具有內(nèi)腔，所述內(nèi)腔內(nèi)設(shè)置有隔板；所述隔板將內(nèi)腔分割為上部的熔融腔體和下部的過(guò)濾腔體；所述熔融腔體內(nèi)安裝有熔融裝置以及熔液沉淀槽；所述過(guò)濾腔體內(nèi)設(shè)置有金屬溶液過(guò)濾裝置；所述熔融腔體的一側(cè)設(shè)置有造渣劑添加裝置；所述熔融腔體的頂部設(shè)置有硅料添加裝置以及惰性氣體供氣裝置；所述過(guò)濾腔體底部設(shè)置有出氣管；所述隔板上設(shè)置有透氣孔。采用該二次硅料的高溫熔融裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)硅料間歇性的連續(xù)除雜，同時(shí)能夠提高效率，降低成本。 |
