一種高通量磁控濺射納米薄膜器件一體化制備裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911096819.1 申請日 -
公開（公告）號 CN110777344B 公開（公告）日 2021-07-06
申請公布號 CN110777344B 申請公布日 2021-07-06
分類號 C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54;B82Y40/00 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 刁訓剛;秦建平;刁詩如 申請（專利權）人 納能鍍膜丹陽有限公司
代理機構 北京領科知識產(chǎn)權代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 艾變開
地址 212300 江蘇省鎮(zhèn)江市丹陽市云陽鎮(zhèn)南三環(huán)路科創(chuàng)園C3樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種高通量磁控濺射納米薄膜器件一體化制備裝置，包括主機、真空抽氣裝置、電源及控制系統(tǒng)和機柜，主機包括工作腔室、樣品架、五個磁控靶和樣品擋板，五個磁控靶傾斜地環(huán)繞在工作腔室頂部，實現(xiàn)共濺射或依次濺射；每個磁控靶配有一個靶擋板，靶擋板通過收縮開合臨時遮擋對應磁控靶；樣品架設置在磁控靶的下方，樣品架頂部設有樣品罩，樣品罩具有多個樣品通孔，用于高通量制備多組份混合納米薄膜和納米多層功能薄膜器件。樣品擋板設在樣品罩的上方。鍍膜制備裝置的磁控靶的設計充分利用了工作腔室內部的空間，能夠實現(xiàn)共濺射或依次濺射鍍膜。樣品罩具有不少于100個樣品通孔，能夠單次同時制備上百個同樣的樣品，為材料基因組高通量鍍膜提供可能。