一種離子源極片清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023229491.7 申請日 -
公開（公告）號 CN214321026U 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN214321026U 申請公布日 2021-10-01
分類號 B08B1/04（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 彭真;楊俊林 申請（專利權(quán)）人 廣州禾信儀器股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 楊勛
地址 510000廣東省廣州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)科學(xué)城開源大道11號A3棟第三層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種離子源極片清洗裝置，設(shè)計離子源極片清洗技術(shù)領(lǐng)域；該離子源極片清洗裝置用于清洗質(zhì)譜儀的離子源極片，質(zhì)譜儀包括殼體，殼體內(nèi)開設(shè)有過渡腔，過渡腔內(nèi)安裝有離子源極片和活動地設(shè)置于過渡腔內(nèi)的樣品靶托，樣品靶托具有與過渡腔連通的安裝腔，安裝腔用于安裝樣品；該離子源極片清洗裝置包括清洗靶，清洗靶包括靶座和清洗刷，靶座與樣品靶托的尺寸適配，且用于安裝于安裝腔內(nèi)，清洗刷設(shè)置于靶座，且至少部分伸出安裝腔，且被配置為在樣品靶托的帶動下清洗離子源極片。該離子源極片清洗裝置具有極片清洗便捷、清洗時間短、效率高、成本低，且無需拆卸離子源極片，能有效地保證儀器整體精密度的優(yōu)點(diǎn)。