一種抗光凌空全息成像裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120154476.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN214278644U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-09-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214278644U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-09-24 |
| 分類(lèi)號(hào) | G03H1/22（2006.01）I | 分類(lèi) | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 張一帆 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 《文化中國(guó)》傳媒股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京首捷專(zhuān)利代理有限公司 | 代理人 | 梁婧宇 |
| 地址 | 101500 北京市密云區(qū)興盛南路8號(hào)院2號(hào)樓106室-198 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種抗光凌空全息成像裝置，中央成像模塊設(shè)置在框架中心，外圍光線(xiàn)偏移模塊包圍中央成像模塊且與框架連接；中央成像模塊包括第一透明板，第一透明板的一側(cè)設(shè)置有高光偏振膜，另一個(gè)設(shè)置有全息投影膜，高光偏振膜面向外圍光線(xiàn)偏移模塊的正面，全息投影膜面向外圍光線(xiàn)偏移模塊的背面；外圍光線(xiàn)偏移模塊為多個(gè)第二透明板，且位于正面和背面的第二透明板設(shè)置有減光材料。中央成像模塊的外邊緣通過(guò)框架隱藏，通過(guò)透明板的一側(cè)設(shè)置有高光偏振膜，另一個(gè)設(shè)置有全息投影膜實(shí)現(xiàn)成像，通過(guò)在正面設(shè)置減光材料，降低成像空間亮度的同時(shí)提高外圍透明板的反射光線(xiàn)，通過(guò)在背面設(shè)置減光材料，控制畫(huà)面背景亮度。 |
