一種基于高反膜的線性位相梯度超表面結構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910893576.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110727037A 公開（公告）日 2020-01-24
申請公布號 CN110727037A 申請公布日 2020-01-24
分類號 G02B1/00;G02B5/08 分類 光學;
發(fā)明人 程鑫彬;何濤;董思禹;王占山 申請（專利權）人 上海鑒影光學科技有限公司
代理機構 上海科盛知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 同濟大學
地址 200092 上海市楊浦區(qū)四平路1239號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種基于高反膜的線性位相梯度超表面結構，包括由下而上依次設置的基板(1)、高反膜(2)和超表面(3)，所述的高反膜(2)為由高折射率介質(zhì)膜層H1和低折射率介質(zhì)膜層L交替設置構成的介質(zhì)膜堆，高反膜(2)與超表面(3)接觸的一側為低折射率介質(zhì)膜層L，所述的超表面(3)采用高折射率介質(zhì)膜層H2，所述的超表面(3)的一個周期由多個不同寬度的單元結構構成。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明省略了傳統(tǒng)厚層金屬襯底，引入全介質(zhì)高反膜，提高了超表面的反射率，降低了超表面的損耗，方法新穎，可以針對可見光至近紅外范圍內(nèi)的激光波長在設計和實驗上分別實現(xiàn)99％和98％的異常反射偏折效率。