一種用于貴重金屬表面拋光的阻尼布及其生產(chǎn)工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210261700.0 申請日 -
公開（公告）號 CN114683183A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114683183A 申請公布日 2022-07-01
分類號 B24D11/00（2006.01）I;B24D11/02（2006.01）I;B24D11/08（2006.01）I;C08L23/28（2006.01）I;C08L11/00（2006.01）I;C08K9/06（2006.01）I;C08K7/18（2006.01）I;C09D127/16（2006.01）I;C09D171/02（2006.01）I;C09D7/62（2018.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 李加海;黃國平;梁則兵;楊惠明;李元祥 申請（專利權(quán)）人 安徽禾臣新材料有限公司
代理機構(gòu) 合肥正則元起專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 243000安徽省馬鞍山市和縣經(jīng)濟開發(fā)區(qū)姥下河?xùn)|路標(biāo)準(zhǔn)化廠房1號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于貴重金屬表面拋光的阻尼布及其生產(chǎn)工藝，屬于精細(xì)加工技術(shù)領(lǐng)域。該種阻尼布從拋光接觸面至吸附面依次包括助磨涂料層、拒水基墊和彈性墊；助磨涂料層由親水改性的偏二氟乙烯和聚乙二醇為成膜材料，助磨涂料層的良好親水性使得拋光液可均勻分散，聚乙二醇具有水溶性，在拋光過程中助磨涂料層緩慢浸蝕，磨料均勻釋放參與拋光，可降低拋光液的濃度，使得拋光液中的磨粒易分散，從而提高拋光精度。拒水基墊通過導(dǎo)電石墨配合電暈處理獲得均勻的用于拋光切削的凸起，且拒水基墊為橡膠基材質(zhì)，具有良好的防滲性能，拋光切削微粉可充分回收，解決現(xiàn)有技術(shù)中貴重金屬拋光切削微難以回收造成成本高的問題。