蝕刻液收集裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121764117.9 申請日 -
公開（公告）號 CN215429645U 公開（公告）日 2022-01-07
申請公布號 CN215429645U 申請公布日 2022-01-07
分類號 B04B15/00（2006.01）I 分類 用于實現(xiàn)物理或化學(xué)工藝過程的離心裝置或離心機;
發(fā)明人 史蒂文·賀·汪;王亦天 申請（專利權(quán)）人 硅密芯鍍（海寧）半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 楊東明;蔡燁平
地址 314400浙江省嘉興市海寧市海昌街道海寧經(jīng)濟開發(fā)區(qū)隆興路118號1512室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種蝕刻液收集裝置，包括：基片旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、腔體、升降機構(gòu)、分液口，腔體包括若干個廢液收集腔，裝置還包括廢液回收環(huán)，廢液回收環(huán)和腔體環(huán)繞于所述基片旋轉(zhuǎn)機構(gòu)布置，分液回收環(huán)在靠近基片旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的一側(cè)設(shè)有若干個分液口，各分液口沿垂直于基片旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的方向依次布置、并分別在廢液回收環(huán)內(nèi)延伸并形成與廢液收集腔數(shù)量相匹配的分液通道，廢液收集腔容納對應(yīng)的所述分液通道，升降機構(gòu)驅(qū)動廢液回收環(huán)在廢液收集腔內(nèi)沿垂直于基片旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的方向作升降運動。本設(shè)計將基片旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，腔體與升降廢液回收環(huán)分離，既解決了升降分層排放廢液的問題又解決了由于升降造成的管線成本壽命問題。