一種半導體晶體生長方法和裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201910357352.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN111850681B | 公開(公告)日 | 2021-09-07 |
| 申請公布號 | CN111850681B | 申請公布日 | 2021-09-07 |
| 分類號 | C30B15/20(2006.01)I;C30B15/02(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 沈偉民;王剛;黃瀚藝;劉赟 | 申請(專利權)人 | 上海新昇半導體科技有限公司 |
| 代理機構 | 北京市磐華律師事務所 | 代理人 | 董巍;高偉 |
| 地址 | 201306上海市浦東新區(qū)臨港新城云水路1000號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種半導體晶體生長方法和裝置。所述半導體晶體生長方法包括:獲取石墨坩堝在首次用于半導體晶體生長過程時的初始位置CP0;獲取所述石墨坩堝的當前生產(chǎn)批次N,所述當前生產(chǎn)批次N表征所述石墨坩堝當前用來進行的半導體晶體生長過程的次數(shù);根據(jù)所述當前生產(chǎn)批次N在所述石墨坩堝內(nèi)套設的石英坩堝內(nèi)裝入多晶硅原料,其中,所述多晶硅原料的總重量稱為裝料量W(N),所述裝料量W(N)根據(jù)當前生產(chǎn)批次N進行調(diào)整,以在保持所述石墨坩堝的初始位置CP0不變的同時,使所述石英坩堝內(nèi)硅熔體液面的初始位置保持穩(wěn)定。根據(jù)本發(fā)明,保證了拉晶過程中各參數(shù)的穩(wěn)定,提升了拉晶的速度和拉晶的質(zhì)量。 |





