一種平面光學元件的面形修正方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110156854.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112817070A 公開（公告）日 2021-05-18
申請公布號 CN112817070A 申請公布日 2021-05-18
分類號 G02B1/10 分類 光學;
發(fā)明人 朱元強;葉沈航;程章彬;廖以旺 申請（專利權(quán)）人 福建福特科光電股份有限公司
代理機構(gòu) 福州市眾韜專利代理事務所（普通合伙） 代理人 方金芝
地址 350100 福建省福州市閩侯縣鐵嶺工業(yè)集中區(qū)二期7號路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種平面光學元件的面形修正方法，包括如下步驟：在平面光學元件的正面鍍制要求的多層膜，并根據(jù)公式（1）在平面光學元件的背面鍍制修正的單層膜，修正的單層膜厚度＝2/3×多層膜厚度×K1×K2公式（1）；公式（1）中，K1＝鍍制多層膜使用的離子能量/鍍制修正單層膜使用的離子能量，K2＝10×（平面光學元件的厚度/平面光學元件最大方向口徑）。在平面光學元件的背面用SiO2單層膜修正平面光學元件的面形，較雙面鍍制相同薄膜的方案容易操作，且SiO2同各種光學元件材料匹配性好，牢固度好。修正后的面形精度高，很容易到達小于λ/10。