一種用于雙面立式動平衡機的擺架結構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120080016.3 申請日 -
公開（公告）號 CN214121499U 公開（公告）日 2021-09-03
申請公布號 CN214121499U 申請公布日 2021-09-03
分類號 G01M1/02（2006.01）I;G01M1/16（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 何珊;馮磊;金志蘭;郭小偉;王宗佳 申請（專利權）人 上海衡望智能科技有限公司
代理機構 杭州求是專利事務所有限公司 代理人 林超
地址 310030浙江省杭州市西湖區(qū)三墩鎮(zhèn)西園三路10號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于雙面立式動平衡機的擺架結構。包括設備基座、擺架、主軸安裝座、主軸組件、靜不平衡采集組件和偶不平衡采集組件；兩個擺架左右對稱地布置于設備基座上，設備基座的上面設有通孔，主軸安裝座穿設在設備基座上面的通孔內，且主軸安裝座通過兩個擺架浮動安裝在設備基座上，主軸組件安裝在主軸安裝座上，靜不平衡采集組件和偶不平衡采集組件相互垂直的布置在主軸安裝座的前后兩側。本實用新型針對擺架的振型分析設計合理的尺寸，從而得到更好的分離比，將多個條形板結構間隔一定距離設計為一整體，得到了較為合適的平動和扭轉剛度，同時也避免了多個零件裝配而引入誤差，得到了較好的靜偶分離效果。