應(yīng)用于雙面拋光設(shè)備的物料管理方法、系統(tǒng)及存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011350935.4 申請日 -
公開（公告）號 CN112405306B 公開（公告）日 2022-03-22
申請公布號 CN112405306B 申請公布日 2022-03-22
分類號 B24B29/02（2006.01）I;B24B7/17（2006.01）I;B24B7/22（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I;B24B41/00（2006.01）I;B24B49/10（2006.01）I;G06K17/00（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 李昀澤 申請（專利權(quán)）人 西安奕斯偉材料技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安維英格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 姚勇政;王渝
地址 710065陜西省西安市高新區(qū)西灃南路1888號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種應(yīng)用于雙面拋光設(shè)備的物料管理方法、系統(tǒng)及存儲(chǔ)介質(zhì)；該系統(tǒng)包括：在雙面拋光設(shè)備的定盤外圍等距離設(shè)置的多個(gè)標(biāo)簽閱讀器、控制器以及設(shè)置在承載盤的電子標(biāo)簽；其中，所述多個(gè)標(biāo)簽閱讀器，經(jīng)配置為通過接收所述電子標(biāo)簽向外輻射的電磁信號測量獲得所述承載盤的實(shí)測位置信息，并將所述承載盤的實(shí)測位置信息傳輸至所述控制器；所述控制器，經(jīng)配置為當(dāng)所述雙面拋光設(shè)備停機(jī)下料時(shí)，將所述承載盤的實(shí)測位置信息與所述承載盤的預(yù)存位置信息進(jìn)行比對；以及，相應(yīng)于所述承載盤的實(shí)測位置信息與所述承載盤的預(yù)存位置信息之間的偏差大于設(shè)定閾值時(shí)，向所述雙面拋光設(shè)備發(fā)送復(fù)位指令。