一種高損傷閾值激光鏡片及其制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910090957.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109782377A 公開（公告）日 2019-05-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN109782377A 申請(qǐng)公布日 2019-05-21
分類號(hào) G02B1/10（2015.01）I; G02B5/08（2006.01）I; C23C14/24（2006.01）I; C23C14/18（2006.01）I; C23C14/10（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 姜海; 劉瑞斌; 孟歡 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 湖南麓星光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 沈陽智龍專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 沈陽北理高科技有限公司
地址 110044 遼寧省沈陽市大東區(qū)東站街59號(hào)378幢401
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，涉及一種高損傷閾值激光鏡片及其制作方法。本發(fā)明的激光鏡片包括基片和鍍膜層，所述的鍍膜層從基片表面依次交替形成數(shù)層二氧化鋯膜層和數(shù)層二氧化硅膜層，其中二氧化鋯膜層采用鋯錫合金進(jìn)行鍍膜。本發(fā)明的制作方法包括基片準(zhǔn)備，鍍前準(zhǔn)備，鍍膜。本發(fā)明提供一種解決直接蒸發(fā)二氧化鋯材料損傷閾值低的高損傷閾值激光鏡片及其制作方法，采用蒸發(fā)鋯錫合金的方法將二氧化鋯膜層的損傷閾值從5J/cm2 10ns@355nm提高至17J/cm2 10ns@355nm。